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氯气分析仪(紫外,可选防爆型)

2021-04-131164

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氯气分析仪(紫外,可选防爆型)

概述

该氯气(CI2)分析仪采用先进的紫外光度法,利用两个紫外LED(UV-LED)同时测量两种气体组分。它支持从ppm级到体积百分比(Vol.-%)级的多种量程,可有效监测氯气。

痕量(ppm级)氯气分析仪专为痕量氯气的连续定量监测而设计,广泛应用于氯碱、PVC、精细化工及半导体行业的工艺尾气、吸收/净化系统以及高纯气体质量控制环节。该设备能精确测量残留氯气,评估净化与脱氯效率,确保排放达标,并支持氯气反应终点判定及干燥塔优化,是环保与过程控制领域的关键设备。

百分比浓度级(<30%)氯气分析仪广泛应用于氯碱、PVC及精细化工行业,用于氯气纯度监测、氯化反应进料控制、氯气与情性气体配比分析以及液氯汽化器出口监测。它能精确测量工艺气体中的氯气浓度,评估干燥、冷凝及净化效率,从而实现反应过程的精准控制与优化。

    

原理

UV-LED辐射光束经分光镜分为测量光路和参考光路。参考光束直接到达检测器,并转换为参考电压值。利用该参考信号,几乎可以完全补偿UV-LED的老化效应。测量光束进入样品池,池内气体吸收辐射能量。测量检测器记录吸收情况,并据此计算测量池中的气体浓度。


应用

• 工艺尾气与排放监测

    环境合规:对氯碱、PVC和精细化工行业工艺尾气中的痕量Clz进行连续监测。

    CEMS集成:对化工和制药设施的烟囱排放进行实时监测,确保符合排放标准。

• 净化与脱氯系统

    洗涤塔与吸收塔出口:测量残留Clz,以评估并优化气体洗涤与净化效率。

    脱氯装置:监测残留氯含量,以验证下游处理系统的脱氯效率。

• 高纯气体质量控制

    半导体制造:验证工艺气体和载气的纯度,以保护敏感制造设备并防止污染。

    高纯化学气体:电子级及高纯化学气体生产过程中的原材料质量控制。

• 工艺优化与控制

    氯化反应终点:精确检测有机合成及氯化反应的终点,以优化产率并最大限度减少化学废料。

    干燥塔性能:对氯气干燥系统进行定量评估与性能跟踪。

• 生产纯度与气化监测

    氯碱纯度验证:连续分析所产氯气的成分,以监测产品纯度和工艺稳定性。

    液氯气化器出口:对液氯气化器出口进行实时工艺分析,确保下游工艺所需的气相浓度保持稳定。•反应进料与配比控制

    氯气进料控制:精确测量反应器进料管线中的氯气浓度,以优化原料投加并提高反应效率。

氯气与惰性气体配比分析:监测并调节氯气(Cl2)与惰性载气(如氮气等)的混合比例,确保化学合成过程安全、精确。

• 工艺效率评估

    干燥与冷凝效果评估:分析工艺气体成分,评估氯气干燥及冷凝工序的运行效率。

    净化系统监测:测量净化装置各环节的氯气浓度,从而优化工艺控制,实现整体工艺流程的优化。

 

测量组分及量程

• Cl2:  0~100 ppm,最高可达 30% (Vol)




详细介绍请参见紫外分析仪




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