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氨气分析仪(可选防爆型)

2021-07-211005

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氨气分析仪(可选防爆型)


概述

微量(ppm级)NH3气体分析仪用于痕量氨气的连续定量监测,广泛应用于燃煤电厂与水泥厂脱(SCR/SNCR)氨逃逸监测、半导体超高纯气杂质分析、化肥与合成氨工艺控制及冷库氨泄漏预警。可精准测量烟气、高纯原料气及环境空气中的微量NH3浓度,用以防止设备硫酸氢铵堵塞与腐蚀、保证半导体晶圆良率、评估脱硝效率并确保安全生产。


工作原理:

高精度激光吸收光谱技术的测量原理,基于待测分子对特定波长光的吸收。

根据待测气体分子选择不同波长的激光二极管光源,通过在探测器端测量透射光(1)和入射光(10)的强度(依据朗伯-比尔定律),即可获知测量室内的当前气体浓度。

       

应用

•脱硝(DeNOx)氨逃逸监测(SCR/SNCR)

    火电厂与水泥厂烟气:对催化反应后的烟气中痕量NH3(氨逃逸)进行连续实时测量,以优化喷氨量并最大限度降低NOx排放。

    设备保护:防止生成硫酸氢铵(ABS),该物质会导致下游空气预热器和静电除尘器发生严重堵塞与腐蚀。

•沼气与生物甲烷净化

    生物甲烷入网质量:持续监测提纯后生物甲烷中的痕量氨,以符合燃气管网入网及车用燃料标准(防止管道腐蚀及燃烧产生氮氧化物排放)。

    沼气提纯工艺控制:测量生物法或化学法脱硫及洗涤装置后的氨逃逸(NH3slip),以评估洗涤效率。

•半导体与高纯气体质量控制

    电子级气体纯度:检测晶圆制造所用氮气(N)、氢气(H2)及情性气体中ppb/ppm级的氨杂质,以防止化学污染。

    洁净室空气质量:监测洁净室环境空气中的空气分子污染物(AMO),以保障光刻工艺安全。

•化学合成与化肥生产

    哈伯-博施(Haber-Bosch)工艺控制:监测尿素或硝酸铵生产线中未反应合成回路及尾气内的痕量氨。

    催化剂性能追踪:评估氨相关化学反应器中催化剂的转化效率及使用寿命。

•制冷与安全监测

    工业冷库:针对大型氨(R717)制冷厂及食品加工设施进行高灵敏度泄漏检测。

    农业排放:测量畜禽废弃物处理及农业排放过程中的氨浓度,以满足环境报告要求。


测量范围

•NH3:    0~10至 to1000ppm


详细介绍请参见激光分析仪




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